MRF 技術

用于精加工的 QED MRF 機器
生產高精度平面、球面和非球面透鏡
表面精度超過 λ/40
受先進的 3D 測量技術支持

概覽

磁流變拋光 (MRF) 是利用精確干涉測量記錄的亞孔徑工具在可控和預測的過程中選擇性地去除材料，以糾正波形誤差的確定性過程。MRF 計算機控制的確定性處理可以消除完成光學表面精加工所需的許多必要手工步驟。光學形狀輪廓直接從一系列先進的三維測量平臺輸入到基于 MRF 機器的軟件中。以一致、可靠的方式將數據從世界先進的測量系統傳輸到基于 MRF 的拋光例程，在平面、球面或非球面表面上打造令人驚嘆的效果。在使用 MRF 技術時，不存在與精密光學表面相關的猜測、漫長反復的處理步驟和成本高昂的經驗性勞動。

功能

高精度球面和平晶光學元件： λ/40 P-V
圓形、矩形和不規則形狀的光圈
校正到弧秒級精度的棱鏡角度
非球面透鏡: 在生成非球面透鏡和預拋光后校正 MRF
校正透射波前錯誤：單一表面和薄窗口片系統校正
常見光學玻璃
縱橫比較高的光學元件

部件規格

直徑范圍: 10mm 至 200mm
最大質量: ~7kg
半徑范圍:
1. 凹面曲率半徑: >35mm
2. 凸面曲率半徑: Call*

*可采用 MRF 技術拋光的半徑的測量技術受限，請與我們聯系，看看是否有適用于您的表面的測量技術。

制造設備

用于精加工的QED MRF機器

計量技術

MRF 機器能生產準確度超過 λ/20 的高精度平面、球面和非球面。除了對旋轉對稱零件進行拋光外，它們還可以使用光柵刀具路徑例程對矩形和多邊形表面進行拋光，從而實現表面圖形校正和角度校正。了解光學表面的性能后，利用專有的光學校正軟件，采用基于 MRF 的拋光誘導表面誤差，以校正總透射波前誤差。